Résistance De La Cuve - Hettich DancerPlus Notice D'utilisation

1.10 Résistance de la cuve
Lors de l'évaporation des produits chimiques suivants, il existe un risque de corrosion des surfaces, de
corrosion perforante, caverneuse ou fissurante sous tension générant un enlèvement de matière, selon notre
fournisseur d'acier chromé Nirosta®. Cela peut entraîner une fuite de vide.
Chlorure d'aluminium (AlCl3 * 6H2O), biflorure d'ammonium (NH4HF2), chlorure d'ammonium (NH4Cl),
chlorhydrate d'aniline (C6H5NH2HCl), trichlorure d'antimoine (SbCl3)
chlorure de baryum (BaCl2 *2H2O), sang (en présence de sel, de la corrosion par piqûres et de la corrosion
caverneuse peuvent se former, notamment avec du sang de cochon), brome (Br2), eau de brome
chlorure de calcium (CaCl2 * 6H2O), hypochlorite de calcium (Ca(OCl)2 * 4H2O), chlore (Cl2), chlorure de chaux
((3CaCl(OCl) * Ca(OH)2) * 5H2O), acide chlorique (HClO3), acide chlorosulfurique (HSO3Cl), eau chlorée,
chlorure d'hydrogène (HCl)
chlorure de fer III (FeCl3), encre métallo-gallique (l'encre contenant du sel peut générer la formation de corrosion
par piqûres et de corrosion caverneuse)
Acide fluorhydrique (HF)
Eau de sous-sol
Urine
Iode (J2), teinture d'iode
Bifluorure de potassium (KHF2), bromure de potassium (KBr), chlorure de potassium (KCl), hypochlorite de
potassium (KClO), eau régale (HCl + HNO3), chlorure de cuivre II (CuCl2 * 2H2O)
chlorure de magnésium (MgCl2 * 6H2O), acide monochloroacétique (CH2ClCOOH)
chlorure de sodium (NaCl), chlorite de sodium (NaClO2), hypochlorite de sodium (NaClO)
Chlorure de nickel (NiCl2 * 6H2O)
Bain de fixage photographique, saumure, chlorostannate d'ammonium ((NH4)2(SnCl6))
Chlorure de mercure II (HgCl2)
Acide chlorhydrique (HCl), saumure de choucroute, acide sulfurique (H2SO4), eau de mer, moutarde, bromure
d'argent (AgBr), chlorure d'argent (AgCl)
chlorure de tosyle (CH3C6H4SO2NClNa * 3H2O), acide trichloroacétique (CCl3COOH)
Eau, acide (eau de sous-sol, en fonction de la concentration de chlorure), chlorure de zinc (ZnCl2), chlorure
d'étain IV (SnCl4), hexachlorure de zinc ammoniacal
Lors de l'évaporation des solvants mentionnés plus haut dans le DancerPlus, nous
recommandons un rinçage quotidien et un nettoyage approfondi de la cuve de vide.
En font également partie le système de raccordement par flexibles vers la pompe à vide et, le
cas échéant, vers le piège à froid, tout comme la cuve du piège à froid.
Hettich AG, Seestrasse 204a, 8806 Baech, Switzerland DancerPlus_FR_rev, 1.1
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