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ces tâches nécessitant une mise en correspondance proche pour de longs tirages. N'utilisez pas cette
option pour des impressions uniques ou des petits tirages.
Le préchauffage système est uniquement applicable dans les modes d'impression suivants :
6 p 80% - 100%
●
8 p 80% - 120%
●
10 p 80% - 120%
●
Pour créer un profil hautement optimisé dans un but et pour un substrat spécifiques, vous devrez peut-être
régler des paramètres pour compenser. Pour obtenir un profil équilibré, il est recommandé d'utiliser l'assistant
Ajout de nouveau substrat ou un profil générique.
Masques d'impression
Le concept des masques d'impression se réfère aux positions respectives des gouttes d'encre sur le substrat. Le
masque utilise un algorithme de randomisation afin d'éviter les motifs visuels. Il en résulte une surface
visuellement lisse, avec un grain minimal et aucune bande.
Un alignement imprécis ou une avance du substrat peut interférer avec l'algorithme, provoquant des motifs de
grain différents avec les longs tirages. Sur des applications de mosaïques, les différences entre les panneaux
peuvent entraîner des raccords visibles.
Le nouveau masque d'uniformité est plus robuste pour ce type de phénomène, offrant un aspect uniformément
texturé pour les longs tirages et permettant des applications de mosaïques sans raccord. C'est pourquoi le
masque d'uniformité est recommandé pour les applications telles que le revêtement mural ou l'habillage de
véhicule ; tandis que le grand masque est recommandé pour les applications comme les affiches, les kakémonos
ou les panneaux rétro-éclairés
Les images suivantes présentent les performances des deux types de masques lorsque le substrat n'avance pas
uniformément.
Grand masque
Sélection du type de masque
1.
Vous pouvez sélectionner le masque souhaité en créant le mode d'impression correspondant dans le menu
de Modifier le substrat. N'oubliez pas que les profils de substrats génériques doivent être copiés avant
d'être modifiés.
2.
Fournissez un nom pour le mode d'impression avec le masque d'uniformité pour qu'il soit accessible pour
l'impression.
FRWW
Masque d'uniformité
Modification d'un profil de substrat 105
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