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Utilisation en mode CI
Configuration d'un flux de gaz réactif de méthane
Configuration d'un flux de gaz réactif de
méthane
Le flux de gaz réactif doit être réglé pour obtenir une stabilité maximale avant
de commencer le réglage du système CI. Effectuer la configuration initiale avec
le méthane en mode PCI. Aucune procédure de réglage n'est disponible en NCI,
car aucun ion de gaz réactif ne se forme.
Le réglage du flux de gaz réactif de méthane est un procédé en trois étapes :
réglage de régulation du flux, préréglage sur les ions de gaz réactif et réglage
du flux pour stabiliser les rapports des ions réactifs, pour le méthane, m/z 28/27.
Le système de données guide l'utilisateur au fil des étapes de la procédure de
réglage.
Procédure
1 En utilisant une source EI, réaliser l'autotune standard, enregistrer le rapport et
2 Mettre le système à pression atmosphérique. (Voir
3 Installer la source à CI. (Voir
4 Évacuer le système. (Voir
5 Patienter jusqu'à ce que la pression soit proche de la pression
6 Sélectionner Bake out MSD (Effectuer l'étuvage du MSD) dans la vue Manual
166
noter la pression indiquée. (Voir
atmosphérique du MSD »
précédemment enregistrée pour l'autotune du mode EI. (Voir
de la pression du vide poussé du mode ionisation chimique »
Tune (Réglage manuel), dans le menu Execute (Exécuter), pour afficher la
boîte de dialogue Specify Bake Out parameters (Spécifier les paramètres
d'étuvage). Régler une durée minimale de 2 heures, régler les autres
paramètres, puis cliquer sur OK pour commencer l'étuvage.
« Réglage du MSD en mode EI »
page 149.)
« Installation de la source CI »
« Mise sous vide du MSD en mode CI »
Manuel d'utilisation du MSD série 5977B
page 138.)
« Mise à pression
page 272.)
page 160.)
« Surveillance
page 178.)
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