Bivirkninger
Hvis materialet forbliver i mundhulen i længere tid kan det
tage imod farve. Dette skader ikke materialets funktion.
Bestanddele som indgår i Fermit / Fermit-N kan i sjældne
tilfælde, hos prædisponerede personer, føre til en
sensibilisering. I sådanne tilfælde skal videre anvendelse
ophøre.
Vekselvirkninger
Fenoliske substanser (f.eks. eugenol) kan forhindre
polymerisation af Fermit og Fermit-N.
Anvendelse af zinkoxid-eugenol-cementer skal derfor
undgås i forbindelse med Fermit og Fermit-N.
Anvendelse
Præparation
1. Præparation, bunddækning og aftryk som sædvanlig.
2. De præparerede tænder tørlægges og matriceanlæg
etableres hvis nødvendigt.
3. Kaviteten rengøres med vandspray.
4. Anvendelse af Systemp.desensitizer:
Systemp.desensitizer appliceres og masseres omhygge-
ligt ind i 10 sek.
5. Forsigtig tørblæsning med trykluft
6. Den nødvendige mængde Fermit/Fermit-N anbringes
med en spatel eller et andet egnet instrument i kavite-
ten; modellering med minimalt overskud.
7. Lagtykkelser op til 4 mm kan hærdes på 10 sek. Med en
standard polymerisationslampe (f.eks. bluephase
med en intensitet større end 500 mW/cm
polymerisationslamper med højere intensitet (f.eks.
bluephase
©
) opnås den samme afbinding efter en
bestråling på 10 sek. i Low Power Modus (LOP)
8. Matricen fjernes
9. Okklusionskontrol.
Cementering
1. Et egnet instrument (f.eks. fyldningsfjerner / scaler)
stikkes ind i den provisoriske fyldning og Fermit /
Fermit-N trækkes ud af kaviteten.
2. Derefter rengøres kaviteten (f.eks. pudsekop og
pimpsten)
3. Indprøvning og cementering af restaureringen.
Anmærkning 1:
Ved standardpræparationer binder Fermit / Fermit-N godt
i kaviteten. Ved minimal mekanisk retention cementeres
provisoriet med en eugenolfri cement (f.eks. Systemp
Retentionen kan forbedres ved at modellere Fermit /
Fermit-N ind i approksimalrummenes underskæringer.
I sådanne tilfælde skal matriceanlæg udelades. I stedet
anvendes en interdental trækile. Efter placering af trækilen
appliceres Fermit / Fermit-N.
Anmærkning 2:
Fermit / Fermit-N kan binde til lyspolymeriserende
bunddækningsmaterialer pga. sammenfaldende kemisk
sammensætning. Ved anvendelse af disse typer bund-
dækningsmaterialer (f.eks. lyspolymeriserende glasionomer-
cementer, kompositter) skal bunddækningen isoleres med
Glyceringel (Liquid Strip). Dette forhindrer bunddækningen
i at forsvinde når Fermit / Fermit-N fjernes fra kaviteten.
Anmærkning 3:
Beslibning og fjernelse af overskud med silikonegummi-
finerer (Politip-F) og hårdmetalfinerer. Polering udføres med
silikonegummipolerer (Politip-P). Overskud kan også fjernes
med en skalpel.
Anmærkning 4:
Ved større kaviteter kan stabiliteten i den okklusale del
af provisoriet øges ved anvendelse af en komposit (f.eks.
Heliomolar eller Tetric EvoCeram). Fermit / Fermit-N kan
©
C5)
lyspolymeriseres separat eller sammen med fyldnings-
2
. For LED-
materialet.
Anmærkning 5:
Let befugtning af arbejdsinstrumentet med
Systemp.desensitizer eller en resin (f.eks. Heliobond) kan
gøre det nemmere at modellere Fermit / Fermit-N i
kaviteten.
Advarsel
Undgå kontakt med uafbundet Fermit / Fermit-N på hud/
slimhinder og i øjne. Fermit / Fermit-N kan i uafbundet
tilstand virke let lokal-irriterende og kan føre til en
sensibilisering mod methacrylater. Almindelige medicinske
undersøgelseshandsker yder ingen beskyttelse mod den
sensibiliserende effekt af methacrylater.
®
.link).