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MOVE
MOVE
8
LIFT
LIFT
9
774 Oven Sample Processor, Mode d'emploi
>Séquence d'échant.
2 MOVE
1
: échant.
1
Grâce à l'instruction MOVE et par l'intermédiaire d'un mouvement rotatif du
rack, l'échantillon actuel ou un bécher spécial peut être positionné devant
la tour (1). Il est également possible d'entrer une position de rack absolue.
Dans un déroulement de méthode, l'instruction MOVE transporte l'élévateur
de façon indépendante en position de rotation.
La direction de rotation est choisie automatiquement de façon standard par
le passeur. Dans le menu des paramètres, sous '>Réglages du passeur', il
est possible de choisir la direction et la vitesse de rotation spécifiquement à
la méthode. Ces dernières peuvent également être variées dans une sé-
quence, à l'aide de l'instruction 'DEF' correspondante.
Le détecteur de bécher de la tour en question reconnaît, s'il n'y a pas de
récipient échantillon à la position de rack choisie et réagit en conséquence.
La réaction du passeur vis à vis d'un bécher manquant peut être réglée
dans le menu des paramètres, sous '>Réglages du passeur'. On a le choix
entre une interruption de déroulement avec affichage d'un message
d'erreur ou le choix de la position de rack suivante (voir page 69). Lorsque
le bécher spécial manque, le déroulement est alors toujours interrompu.
>Séquence d'échant.
3 LIFT: 1
:
repos mm
1
travail,
rincage, rotat.,
spéc., repos,
0...100 mm
Ceci permet de monter ou descendre l'élévateur dans une position définie.
Les positions de travail, rinçage, rotation et spéciale sont définies spécifi-
quement par rack dans le menu des configurations, sous '>Définitions de
rack' (voir page 63). Ces paramètres peuvent également être variés dans
une séquence, à l'aide de l'instruction 'DEF' correspondante.
La position de travail devrait être utilisée pour les récipients échantillons. Il
est futile d'utiliser la position de rinçage pour les récipients de condition-
nement.
La position de repos se trouve en position zéro (0 mm) de l'élévateur, ce
qui correspond à la butée supérieure.
L'élévateur peut être positionné au millimètre près. Pour ce faire, la fonction
LEARN est également disponible (voir page 33).
5.4 Instructions de déroulement
Positionner le bécher / tourner
le rack
échant,
Le premier paramètre de cette instruction définit le
spéc.1...8
but du mouvement MOVE du rack. Comme l'Oven
1...999
Sample Processor 774 ne connaît qu'un seul
élévateur, ce n'est pas ingénieux d'entrer ici une
autre valeur.
Positionnement de l'élévateur
Le premier paramètre de cette instruction définit
l'élévateur auquel l'instruction doit être réalisée.
Comme l'Oven Sample Processor 774 ne connaît
qu'un seul élévateur, ce n'est pas ingénieux
d'entrer ici une autre valeur.
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