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3.1 Racks d'échantillons
Béchers spéciaux
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La position spéciale est une position d'élévateur supplémentaire défi-
nie par l'utilisateur. Elle peut être sélectionnée par exemple pour pipeter
avec un bras pivotant de manière à ce que la pointe de pipetage soit
positionnée juste au-dessus de la solution échantillon, pour former une
bulle de séparation (bulle d'air). Dans une séquence de déroulement,
on peut programmer celle-ci avec
Le rayon de bécher peut être utilisé, pour éviter qu'avec une tête de ti-
trage, on essaie d'avoir accès à un récipient trop étroit. Ceci pourrait
provoquer des dommages aux électrodes ou au récipient échantillon.
Grâce à l'entrée de ce rayon de bécher limite, le Sample Processor
peut décider, si la tête de titrage ou de transfert sur l'élévateur "passe"
dans le récipient échantillon utilisé, voir aussi chapitre 2.2.
Le capteur de bécher n'est momentanément pas disponible pour le
838 Advanced Sample Processor.
Les béchers spéciaux sont des positions réservées sur un rack
d'échantillons. Jusqu'à 16 positions spéciales de bécher peuvent être
définies, par rack. On peut avoir un accès précis à ces positions pen-
dant un déroulement de méthode, sans interrompre ou handicaper le
déroulement de la série d'échantillons.
Les positions de béchers spéciaux réservées sont reconnues automati-
quement dans une séquence d'échantillon et ne sont pas pris en
considération pendant le traitement des béchers échantillons indivi-
duels.
Accès au bécher spécial, avec
Pour chaque position spéciale de bécher d'un rack, les réglages sui-
vants peuvent être effectués séparément:
•
Position de rack
•
Position de travail sur tour 1
•
Rayon de bécher
•
Capteur de bécher
Si un bécher spécial est nécessaire au cours du déroulement de la mé-
thode, mais que le Sample Processor ne le trouve pas à la position ré-
servée, un message d'erreur est alors affiché à chaque fois.
LIFT: 1 : spécial mm
.
MOVE 1: spéc.1
Metrohm 838 Advanced Sample Processor
.
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