Metrohm 838 Advanced Sample Processor Mode D'emploi page 29

Table des Matières

Publicité

>>Charger rack
rayon de bécher
Ce réglage est nécessaire au contrôle automatique du rayon de bécher, voir
page 17.
>Charger rack
capteur bécher:
Pas implémenté.
>Charger rack
rack offset
)
*
citées ci-dessus et le rack offset .
Positions béchers spéciaux
>>Charger rack
>>>Pos. spéciales
Avec
Les positions de béchers spéciaux sont des places prédéfinies sur un rack
<QUIT>,
d'échantillons, qui ne sont pas traitées comme positions échantillons. Elles
accès
peuvent être occupées par des béchers de rinçage ou de conditionnement
au niveau supé-
et être utilisées d'une manière précise au cours du déroulement d'une mé-
rieur
thode. Il est possible de définir 16 positions spéciales par rack. Pour chaque
suivant
bécher spécial, il est possible d'entrer la hauteur de travail de l'élévateur,
ainsi que le rayon de bécher, voir plus haut.
Sélection d'un bécher spécial
Position de rack du bécher spé-
cial
et ainsi de suite jusqu'au bécher
spécial 16
>Définitions de rack
>>Mémoriser rack
Pour mémoriser les modifications des définitions d'un rack d'échantillons, il
Metrohm 838 Advanced Sample Processor
0...235 mm
*, 1...100 mm
tour, pivot., non
-5.00...0.00...5.00°
Avec <LEARN>, il est possible de régler toutes les positions d'élévateur
(en mm en partant de la butée supérieure)
Rayon de bécher effectif des positions
* mm
d'échantillons du rack
* = quelconque
Sélection du détecteur de bécher
non
Correction d'angle de pivotement du
0.00°
rack d'échantillons*
Sous-menu relatif aux positions spécia-
les
Ouvrir avec <ENTER>
>>>Pos. spéciales
bécher spécial
>>Pos. spéciales
position de rack
0...max. n°. de position.
Mémoriser les définitions de rack
2 Maniement
)
1
1...16
1
0
0 = non défini
21

Publicité

Table des Matières
loading

Table des Matières