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SPÉCIFICATIONS
Module autofocus permanent U-AFA1M
Article
Statifs microscopes utilisables
Têtes d'observation utilisables
Boîtier de contrôle utilisable
Commande
Méthode de détection AF
Objectifs recommandés
Modes d'observation
Numéro de champ
Vitesse de mise au point
AF repeatability
Intervalle de déplacement
de l'échantillon
Dimensions et poids
Environnement de travail
· Utilisation à l'intérieur
· Altitude : max. 2000 m.
· Température ambiante : 10 à 35°C (50° à 95°F)
· Humidité relative : de 15% à 85% (Fluctuation de la tension électrique : ± 10%
· Degré de pollution : 2 (selon la norme IEC664)
· Catégorie surtension : II (selon la norme IEC664)
BX61TRF/BX62TRF + BX-RLAA/BX-RFAA
U-BI30-2, U-TR30-2, U-ETR, U-TLU, U-SWTR-2, U-SWETR, U-SWETTR
# L'indice de champ est limité à 22 lors de l'utilisation de U-SWTR-2, U-SWETR
ou U-SWETTR.
BX-UCB (Carte AF et logiciel BX2 pour PC nécessaires.)
PC ou PC + clavier de commande (U-HSTR2)
Mise au point permanente de réflexion de la division de la pupille avec l'utilisation d'une
diode laser et d'un détecteur de division 2.
Diode laser : 785 nm (Classe 1 : JIS C6082, IEC825, CDRH)
LMPlanFI(-BD) 5X à 100X, UMPlanFI(-BD) 5X à 100X, LMPlanApo(-BD) 150X
Fond clair lumière incidente, Fond noir lumière incidente, DIC à lumière incidente (utilisant
l'analyseur U-AN360RAF), Observation lumière polarisée simple, lumière incidente (utilisant
l'analyseur U-AN360RAF)
22
0.2 secondes maximum depuis le point de convergence
5X (±0,6 µm), 10X (±0,5 µm), 20X (±0,3 µm), 50X (±0,2 µm), 100X (±0,2 µm), 150X (±0,2 µm)
5X (10000 µm), 10X (6000 µm), 20X (2000 µm), 50X (500 µm), 100X (100 µm), 150X (50 µm)
}La répétitivité et l'intervalle de déplacement sont des valeurs de référence obtenues en obser-
vant un objet wafer IC (15% environ d'incidence) en utilisant les objectifs LMPlanFI(-BD) 5X à
100X et LMPlanApo(-BD) 150X.
171(L) x 65(H) x 313(P) mm, environ 3.3 kg
Spécifications
U-AFA1M
12
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