Hach PHOSPHAX sigma Manuel D'utilisation De Base page 183

Toiminnallinen kuvaus
Fosforin kokonaispitoisuuden määrittäminen
Mittaus aloitetaan huuhtelemalla kyvetti näyteliuoksella ennen kuin
reagenssi A ja homogenoitu näyte johdetaan kyvettiin. Kun nesteet on
sekoitettu, liuosta kuumennetaan hetki paineen alaisena ja jäähdytetään
välittömästi uudelleen. Ortofosfaateiksi muuntuneet fosforiyhdisteet
määritetään syöttämällä ja sekoittamalla reagenssit C ja D kyvettiin
samanaikaisesti reagenssin annostelupumpulla. LED-fotometri määrittää
fosforin kokonaispitoisuuden kyvettiin kehittyvän sinisen värin
intensiteetin perusteella, aiemmin määritetyn nolla-arvon huomioon
ottaen.
Ortofosfaatin määrittäminen (mallin mukaan)
Mittaus aloitetaan huuhtelemalla kyvetti näyteliuoksella. Tämän jälkeen
reagenssi A johdetaan kyvettiin. Kun liuosta kuumennetaan, hapetin
muuntuu rikkihapoksi. Kun liuos on jäähtynyt, näyteliuos, reagenssi C ja
reagenssi D johdetaan kyvettiin annostelupumpuilla. Sekoituksen ja
reaktiovaiheen jälkeen LED-fotometri suorittaa mittauksen.
Kalibrointi (noin 15 minuuttia)
PHOSPHAX Σ sigma -fotometri kalibroituu automaattisesti
kaksivaiheisella mittauksella. Ensimmäinen mittauspiste määrittyy
kunkin yksittäisen mittauksen nollapisteen määrityksen yhteydessä ja
toinen mittauspiste määrittyy, kun laite kalibroidaan standardiliuoksella.
Standardiliuoksen tarkka pitoisuus on määritelty kussakin liuospullossa
(1,95–2,05 mg/L P), ja se syötetään [+SETTINGS] (ASETUKSET) -
valikkoon kohdassa [STANDARD].
Kalibrointi on käynnistettävä aina, jos seuraavia järjestelmän osia on
muutettu:
• Reagenssit
• Annosteluletkut
• Annostelupumput
• Kyvetti
• Sähköjärjestelmä
Kalibrointiprosessi toimii täysin samalla tavalla kuin normaali
mittaustoimenpide. Ainoa ero on se, että mitattavana aineena on
jätevesinäytteen sijaan standardiliuos. Kalibrointi ei vaikuta virran
ulostuloon. Viimeinen ennen kalibrointia mitattu arvo tallentuu
laitteeseen, ja se päivittyy vasta, kun laitteella tehdään uusi mittaus
kalibroinnin jälkeen.
Automaattinen puhdistus (noin 15 minuuttia)
PHOSPHAX Σ sigma tuottaa puhdistusliuoksen itse. Tätä varten
kyvettiin johdetaan uuttoreagenssia A. Liuoksen kuumetessa hapetin
muuntuu rikkihapoksi. Tämän jälkeen koko näytelinja noin 1,2 metrin
pituisen näytteen syöttöletkun päähän saakka täyttyy kuumalla hapolla.
5 minuutin reaktioajan jälkeen käytetty puhdistusliuos tyhjennetään
tyhjennysletkun kautta.
Suojapaneeli
Kyvetin sisällä on toimenpiteiden aikana yli 100 °C:n lämpötiloja,
painetta sekä voimakasta happoa. Tämän vuoksi turvatoimet ovat
erittäin tärkeitä.
Analyysilaitteiston edessä on suojapaneeli. Suojapaneelin sisäpuolella
on läpinäkyvä turvapultti, joka on kytketty fotometrin aluslevyn alla
olevaan lukitusjärjestelmään.
Lukitus voidaan avata ainoastaan [+SERVICE] (HUOLTO) -valikon
kautta, kun laite on oletustilassa (kyvetti tyhjänä, paineettomana ja
ympäristön lämpötilassa).
H U O M A U T U S
Jos analyysijärjestelmän (annostelu- ja yhteysletkut, pumput, venttiilit, kyvetti)
sisällä tehdään esimerkiksi huoltotoimenpiteitä tai muita töitä, suojapaneeli on
irrotettava töiden ajaksi ja kiinnitettävä takaisin paikalleen ennen mittausten aloit-
tamista!
Annostelupumput
Järjestelmän neljä annostelupumppua vastaavat kaikkien nesteiden
kuljetuksesta.
Niitä ohjataan askelmoottorilla, ja niiden nopeutta ja pyörimissuuntaa
voidaan säätää. Annosteluletkut johdetaan pumppukasettien avulla
Suomi 183