Selezione Del Metodo Di Misurazione Esposimetrica - Sony Cyber-shot DSC-V3 Mode D'emploi

Selezione del metodo
di misurazione
esposimetrica
È possibile selezionare un modo di
misurazione esposimetrica per determinare
l'esposizione, secondo quale parte del
soggetto viene usata per essere misurata.
Misurazione esposimetrica a
configurazione multipla (nessun
indicatore)
L'immagine è divisa in zone multiple,
ciascuna delle quali viene valutata
singolarmente. La macchina fotografica
calcola l'esposizione migliore in base alla
posizione del soggetto e alla luminosità
dello sfondo.
L'impostazione predefinita è
la misurazione esposimetrica a
configurazione multipla.
Misurazione esposimetrica con
prevalenza del centro (
La misurazione esposimetrica è eseguita
dando la priorità al centro dell'immagine.
La macchina fotografica determina
l'esposizione in base alla luminosità di un
soggetto vicino al centro.
Misurazione esposimetrica locale
( )
La misurazione esposimetrica locale
consente di misurare il soggetto
direttamente in una piccola area
dell'immagine intera. Ciò consente di
regolare l'esposizione secondo il soggetto
anche quando il soggetto è in controluce
o c'è un forte contrasto tra il soggetto e lo
sfondo.
MENU
Tasto di controllo
 Impostare la manopola del
modo su P, S, A, M, SCN o
)
 Premere MENU.
Appare il menu.
 Selezionare
mis. esp.) con / e poi
selezionare il modo desiderato
di misurazione esposimetrica
con /.
 Quando si seleziona [Locale]
Manopola del modo
• Quando si usa la misurazione esposimetrica
con prevalenza del centro o la misurazione
esposimetrica locale, per mettere a fuoco lo
stesso punto che è usato per la misurazione
esposimetrica, si consiglia di usare il quadro
del telemetro AF con prevalenza del centro
(pagina 69).
• Non è possibile selezionare il modo di
misurazione esposimetrica quando si usa la
funzione di inquadratura notturna/ripresa
notturna.
.
(Modo
al punto , posizionare
il reticolo di misurazione
esposimetrica locale su un
punto del soggetto che si
desidera riprendere.
60 FINE
min
101
VGA
98
P
Reticolo di
misurazione
esposimetrica
locale
SAF 250 F2.0
IT
63