KROHNE OPTISWITCH 5200 C Manuel De Référence page 30

9 Annexe
Second Line of Defense ou exécution étanche au gaz (en option)
Ʋ La Second Line of Defense (SLOD
- seconde ligne de défense) est un
second niveau de séparation du
processus, sous la forme d'une exé-
cution étanche au gaz dans la partie
inférieure du boîtier qui empêche la
pénétration de produit dans le boîtier.
Ʋ Matériau support
Ʋ Verre scellé
Ʋ Contacts
Ʋ Débit de fuite à l'hélium
Ʋ Résistance à la pression
Longueur du capteur (L)
Ʋ 316L, Alloy C22 (2.4602)
Ʋ Alloy C22 (2.4602) émaillé
Ʋ 316L, revêtu ECTFE
Ʋ 316L revêtu PFA
Ʋ Précision de la longueur des capteurs ± 2 mm (± 0.079 in)
Diamètre du tube
Poids
Ʋ Poids de l'appareil (selon le raccord
process)
Ʋ Prolongement du tube
Épaisseur du revêtement
Ʋ Émail
Ʋ ECTFE
Ʋ PFA
Index de rugosité de surface
Ʋ Standard
Ʋ Version alimentaire 3A (OPTISWITCH
5250 C)
Ʋ Version alimentaire 3A (OPTISWITCH
5250 C)
Raccords process
Ʋ Filetage pas du gaz, cylindrique
(DIN 3852-A)
Ʋ Filetage de tube, conique
(ASME B1.20.1)
Ʋ Brides
Ʋ Raccords alimentaires
30
316L
Verre au borosilicate (Schott n° 8421)
1.4101
< 10 mbar l/s
-6
PN 64
80 ... 6000 mm (3.15 ... 236.22 in)
80 ... 1500 mm (3.15 ... 59.055 in)
80 ... 3000 mm (3.15 ... 118.11 in)
80 ... 4000 mm (3.15 ... 157.48 in)
ø 21,3 mm (0.839 in)
env. 0,8 ... 4 kg (0.18 ... 8.82 lbs)
env. 920 g/m (9.9 oz/ft)
600 µm ±200 µm (0.024 in ±0.008 in)
500 µm +500/-200 µm (0.02 in +0.02/-0.008 in)
600 µm +500/-300 µm (0.024 in +0.02/-0.012 in)
R env. 3 µm (1.18 in)
-4
a
R < 0,8 µm (3.15 in)
-5
a
R < 0,3 µm (1.18 in)
-5
a
G¾, G1
¾ NPT, 1 NPT
DIN à partir de DN 25, ASME à partir de 1"
Raccord union DN 40 PN 40, Clamp 1" DIN 32676
ISO 2852/316L, Clamp 2" DIN 32676 ISO 2852/316L,
cône DN 25 PN 40, Tuchenhagen Varivent DN 50 PN 10
OPTISWITCH 5200 C, 5250 C • Relais (DPDT)