3.4 Instructions
Remarques
78
accès à position 1. Si on utilise la fonction MOVE précéd. sur la posi-
tion de rack 1, la position la plus haute possible est alors atteinte.
jusqu'à
– positions spéciales de bécher réservées sur le rack
spéc.1
16
d'échantillons. Ces dernières sont définies dans la configuration de
rack, voir également page 63.
+pivot., -pivot. – pivotement relatif du bras pivotant d'un angle d'in-
crément déterminé. Le signe précédent donne la direction de rotation.
L'angle est défini sous
+rotat., -rotat. – rotation relative du rack d'un angle d'incrément dé-
terminé. Le signe précédent donne la direction de rotation. L'angle est
défini sous
Paramètres >Param. du passeur
Positionnement absolu – déplacement vers la position rack choisi,
même si celle-ci est une position spéciale de bécher réservée.
Positionnement relatif – si une position de rack numérique est dotée
d'un signe positif ou négatif, la position sélectionnée de rack se réfère à
chaque fois de manière relative à la valeur de la variable SAMPLE,
c'est à dire relativement à la position d'échantillon actuelle.
Dans un déroulement de méthode, une instruction MOVE déplace
l'élévateur (ou les deux élévateurs) automatiquement, en position de ro-
tation.
Après une fonction
placé librement, bien que le rack n'ait pas été déplacé vers une posi-
tion de rack définie. Pour cette raison il existe le danger qu'avec le
mouvement de l'élévateur peut causer du dommage. Cette fonction
doit alors être utiliser avec précaution.
La direction de rotation est choisie de manière standard automatique-
ment par le Sample Processor. Dans le menu des paramètres, sous
>Param. du passeur
vitesse de rotation de manière spécifique à la méthode. Celles-ci peu-
vent être modifiées dans une séquence avec l'instruction DEF corres-
pondante.
Dans le cas où, sur la position de rack choisie ne se trouve aucun bé-
cher, ceci est reconnu par le détecteur de bécher (si activé) de la tour
correspondante et l'appareil réagit en conséquence.
La réaction du Sample Processor à un bécher manquant peut être défi-
nie dans le menu des paramètres, sous
choix, soit une interruption du déroulement avec affichage d'un mes-
sage d'erreur, soit la sélection de la position de rack suivante (voir
page 70). Si un bécher spécial est lui manquant, le déroulement est
alors toujours interrompu.
Si un bras pivotant avec un capteur de bécher Piezo est installé est ac-
tivé, l'élévateur, après l'instruction
de travail pour contrôler l'existence du bécher d'échantillon.
Paramètres >Param. du passeur
ou
+/-pivot.
+/-rotat.
, il est possible de fixer la direction de rotation et la
MOVE échant.
.
.
l'élévateur peut être dé-
>Param. du passeur
, est déplacé à l'hauteur
Metrohm Sample Processor, Maniement
. On a au