Nordson MPS610V Manuel De Produit page 70

Bloc d'alimentation avec unicable
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9‐8
Glossaire UV
post réticulation
projection
réflecteur
refroidissement négatif
refroidissement positif
réticulation
réticulation de surface
réticulation pénétrante
sans électrode
simple
solarisation
P/N 7560725A
La continuation des réactions chimiques dans l'encre ou le revêtement
après avoir cessé l'exposition aux UV.
Une bande non concentrée de lumière UV qui est distribuée de
manière plus régulière et plus diffuse sur la largeur du réflecteur.
Réfléchit et concentre la lumière UV sur le substrat. Obtenu par lami­
nage d'une feuille d'aluminium fortement polie ou par façonnage de
borosilicate en un profilé elliptique ou parabolique. Les profilés ellip­
tiques optimisent la concentration de l'énergie UV qui est réfléchie en
guidant le rayonnement dans une bande UV fortement concentrée
alors que les réflecteurs paraboliques produisent une projection de
lumière UV. Des trous ou des fentes dans le réflecteur permettent à
l'air de refroidissement de passer à travers. Les trous ou les fentes ont
une taille et un emplacement qui assurent une circulation d'air à la fois
optimale et équilibrée sur la longueur de l'ampoule.
Lorsque l'air de refroidissement destiné au logement de lampe est
prélevé de la zone qui entoure le substrat en cours de réticulation et
traverse le logement de lampe. Le refroidissement négatif assure
l'extraction du système UV s'il est acheminé à l'atmosphère. Le ref­
roidissement négatif est le plus souvent réalisé par un ventilateur de
refroidissement externe.
Lorsque l'air de refroidissement destiné au logement de lampe est
soufflé à travers le logement de lampe et sur le substrat en cours de
réticulation. Le refroidissement positif peut être réalisé par le biais d'un
ventilateur de refroidissement intégré ou externe. Un système
d'extraction supplémentaire est nécessaire avec le refroidissement po­
sitif pour éliminer la chaleur et l'ozone.
Un procédé de séchage aux UV qui est réalisé par le biais d'une ré­
action chimique entre une encre ou un revêtement sensible aux UV et
de la lumière UV.
Lorsque le matériau sensible aux UV est uniquement réticulé sur la
surface exposée aux UV.
Lorsque le matériel sensible aux UV est réticulé jusqu'à l'interface entre
le matériel et le substrat.
Un système UV énergisé par des micro-ondes.
Logement de lampe à électrode muni d'un berceau qui ne reçoit qu'une
seule ampoule et un réflecteur.
L'effet de la lumière UV sur l'ampoule en quartz. Au cours du temps, la
lumière et la chaleur des UV provoque une dévitrification du quartz ou
un retour de celui-ci dans un état cristallin et poreux.
E 2007 Nordson Corporation

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