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6 Opérer le dispositif
Réduire le temps de polissage
1.
S'assurer que la tension est correcte.
2.
Régler Mode (Mode) sur Polishing only (Polissage uniquement).
3.
Placer l'échantillon et positionner le bras de l'anode.
4.
Fermer le couvercle de protection.
5.
Démarrer le polissage de l'échantillon: Presser Marche.
6.
Une fois le processus terminé, retirer le couvercle de protection.
7.
Nettoyer l'échantillon et vérifier le résultat.
Si le résultat n'est pas satisfaisant, augmenter/diminuer le temps de polissage
par incréments de 5 secondes jusqu'à ce que le meilleur résultat soit atteint.
Le temps d'attaque
1.
S'assurer que la tension est correcte.
2.
Régler Mode (Mode) sur Polishing/Etching (Polissage/attaque)
3.
Placer l'échantillon et positionner le bras de l'anode.
4.
Fermer le couvercle de protection.
5.
Démarrer le polissage de l'échantillon: Presser Marche.
6.
Une fois le processus terminé, retirer le couvercle de protection.
7.
Nettoyer l'échantillon et vérifier le résultat.
Si le résultat n'est pas satisfaisant, augmenter/diminuer le temps d'attaque par
incréments de 2 secondes jusqu'à ce que le meilleur résultat soit atteint.
Changer le masque
Pour polir des zones plus grandes, remplacer le masque par un masque avec un trou plus grand.
Cela peut affecter les paramètres suivants:
50
Remarque
Avant de poursuivre le processus, effectuer une session rapide de
prépolissage mécanique ou remplacer une partie de l'échantillon qui
n'a jamais été polie ou attaquée auparavant. Si nécessaire, utiliser un
nouvel échantillon.
Remarque
Avant de poursuivre le processus, effectuer une session rapide de
prépolissage mécanique ou remplacer une partie de l'échantillon qui
n'a jamais été polie ou attaquée auparavant. Si nécessaire, utiliser un
nouvel échantillon.
LectroPol-5
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