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Remarque
Avant de poursuivre le processus, effectuer une session rapide de
prépolissage mécanique ou remplacer une partie de l'échantillon qui
n'a jamais été polie ou attaquée auparavant. Si nécessaire, utiliser un
nouvel échantillon.
3.
Placer l'échantillon et positionner le bras de l'anode.
4.
Fermer le couvercle de protection.
5.
Démarrer le polissage de l'échantillon: Presser Marche.
6.
Une fois le processus terminé, retirer le couvercle de protection.
7.
Nettoyer l'échantillon et vérifier le résultat.
Si le résultat n'est pas satisfaisant, augmenter/diminuer la tension de polissage
par incréments de 2 V jusqu'à ce que le meilleur résultat soit atteint.
La tension d'attaque
Régler la tension de polissage et répétez la séquence pour trouver la tension d'attaque
correcte.
1.
Régler Voltage (Tension) pour Polishing (Polissage).
2.
Régler Mode (Mode) sur Polishing/Etching (Polissage/attaque).
3.
Régler Time (Temps) pour Etching (Attaque) à 5 secondes.
Remarque
Avant de poursuivre le processus, effectuer une session rapide de
prépolissage mécanique ou remplacer une partie de l'échantillon qui n'a
jamais été polie ou attaquée auparavant. Si nécessaire, utiliser un nouvel
échantillon.
4.
Placer l'échantillon et positionner le bras de l'anode.
5.
Fermer le couvercle de protection.
6.
Commencer le polissage et l'attaque de l'échantillon: Presser Marche.
7.
Une fois le processus terminé, retirer le couvercle de protection.
8.
Nettoyer l'échantillon et vérifier le résultat.
Si le résultat n'est pas satisfaisant, augmenter/diminuer la tension d'attaque par
incréments de 1 V jusqu'à ce que le meilleur résultat soit atteint.
Le réglage Time (Temps)
Si nécessaire, ajuster le réglage Time (Temps) pour Polishing (Polissage) et Etching (Attaque).
LectroPol-5
6 Opérer le dispositif
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