Metrohm 774 Guide D'utilisation page 15

2 Guide d'utilisation
CONFIG
...
RESET
CLEAR
<ENTER>
<ENTER>
<ENTER>
< >
QUIT
< >
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d'évacuation plus courte doit avoir perforée le septum, mais le support
de l'aiguille ne doit pas appuyer sur le bouchon septum.
• Retournez à présent de nouveau au menu de configuration. Appuyez sur
la combinaison de touches suivantes <CONFIG>, 2x < >, <ENTER>
et 4x < >.
• La position actuelle de l'élévateur peut être acceptée en tant que position
de rinçage, en appuyant maintenant sur la touche <CLEAR>.
• Votre position d'élévateur actuelle peut varier quelque peu de la valeur ci-
dessus. Confirmez votre valeur en appuyant sur <ENTER>.
• L'entrée de menu suivante définit la position de rotation de l'élévateur.
• Laissez la valeur de 0 mm inchangée; il en va de même pour l'entrée
suivante des positions spéciales supplémentaires de l'élévateur.
• Poursuivez avec < > ou <ENTER>.
• S'ensuit un sous-menu supplémentaire, dans lequel les places réservées
sur le rack échantillon peuvent être définies. Appuyez sur <ENTER>.
La position de rack 36 du rack standard de l'Oven Sample Processor
•
774 est déjà inscrite en tant que position spéciale. Cette dernière est la
place réservée ('Cond. Pos.') au récipient de conditionnement et de rin-
çage. Si vous avez suivi jusqu'à, maintenant toutes les instructions cor-
rectement, l'aiguille de perforation devrait se trouver actuellement dans
ce récipient de conditionnement.
Vérifiez si aucun autre bécher spécial n'a été défini. Appuyez sur < >.
•
Si un 0 (zéro) est inscrit en position bécher spécial 2, cela signifie que ce
•
bécher spécial n'est pas défini.
Contrôlez aussi les réglages des autres béchers spéciaux (jusqu'au bé-
•
cher spécial 8). Si vous avez partout un 0 (zéro), cela signifie que vous
avez à votre disposition 35 places sur le rack, pour vos échantillons.
Lorsque vous appuyez sur <QUIT>, vous vous trouvez alors de nou-
•
veau dans le menu principal de configuration.
Il n'est pas nécessaire, ni de contrôler, ni de changer les réglages des
•
unités de dosage dans ce guide d'utilisation.
Continuez avec la touche < >.
>Définition de rack
pos. de rincage 0 mm
>Définition de rack
pos. de rincage 45 mm
>Définition de rack
pos. de rotation 0 mm
>Définition de rack
pos. spéciales 0 mm
>>Définition de rack
>>Positions spéciales
>>Positions spéciales
bécher spécial 1
>>Positions spéciales
bécher spécial 2
Configuration
>Unités de dosage
Oven Sample Processor 774, Guide d'utilisation
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